Onthechting van metallische lagen

Oppervlakteanalytische methoden worden vaak gebruikt om onthechtingsproblemen op te helderen. In het volgende voorbeeld toonde een metallische laag uit twee bestanddelen een slechte hechting aan het onderliggende substraat. Het monster werd in epoxyhars ingebed en er werd een dwarsdoorsnede gemaakt. Op deze manier werd de grenslaag tussen de metallische laag en het substraat bloot gelegd. Met Time-of-Flight secondaire ionen massaspectrometrie (ToF-SIMS) konden vetzuurresten worden geïdentificeerd als de oorzaak van de slechte hechting. Met deze kennis werd de reinigingsprocedure voor het substraat getest en specifiek verbeterd.

Laag

Bestanddeel A

Vetzuurrest

Laag

Bestanddeel B

In plaats van een dwarsdoorsnede van het monster te maken, zoals hier, kunnen ook minder kostintensieve methoden gebruikt worden in gevallen van uitgesproken onthechting. Met plakband en een zgn. Gitterschnitt of door het optillen met een scalpel kunnen lagen van elkaar gescheiden worden. Daarna kunnen de achterzijde van de onthechte laag en het vrijgekomen substraatoppervlak chemisch gekarakteriseerd worden om de aanwezigheid van mogelijke hechtingsverslechterende verbindingen (bijvoorbeeld olie, enz.) vast te stellen.